AMBER·ZHAO晶雕復源清紋面膜
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水
皮膚調理,溶劑1
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杏(PRUNUS ARMENIACA)仁提取物
皮膚調理,抗氧化1
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二肽二氨基丁酰苄基酰胺二乙酸鹽
抗衰,皮膚調理1
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丁二醇
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制1
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1,2-戊二醇
皮膚調理,保濕,增溶劑,溶劑1
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肌肽
抗糖化,抗衰,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕1
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糖蛋白
皮膚調理,保濕,頭髮調理1
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海藻糖
皮膚調理,保濕,柔潤劑1
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對羥基苯乙酮
抗氧化1
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泛醇
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑1
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岩藻糖
皮膚調理,表面活性劑1
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生物糖 膠-1
皮膚調理,保濕1
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生育酚(維生素E)
修護,抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕致痘風險等級(低)1
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黃原膠
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑1
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卵磷脂
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,表面活性劑,乳化劑1-2
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紅沒藥醇
修護,去黑頭,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,保濕1-2
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霍霍巴酯類
舒敏,皮膚調理,保濕,柔潤劑1
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甘草酸二鉀
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕1
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角鯊烷
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑,賦脂劑1
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透明質酸鈉
抗衰,皮膚調理,保濕1
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(動物)胎盤蛋白
保濕,抗氧化5
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甘草類黃酮
皮膚調理,抗氧化
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EDTA 二鈉
螯合劑,黏度控制1
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聚谷氨酸
皮膚調理,保濕1
溫馨提示:
綠色表示安全。
橙色表示較安全。
紅色表示潛在風險成分。
灰色表示暫無數據。
安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。