御泥坊九法凈顏泥漿面膜
-
日本扁柏(CHAMAECYPARIS OBTUSA)水
皮膚調理,抗氧化,氣味抑製劑1
-
伊利水雲母
皮膚調理,去角質,吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑1
-
高嶺土
吸附劑,填充劑,抗結塊劑,摩擦劑,不透明劑1
-
丁二醇
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制1
-
甘油
皮膚防護,皮膚調理,頭髮調理,口腔護理,保濕,變性劑,溶劑,黏度控制1-2
-
石英
去角質,摩擦劑1-6
-
甜菜鹼
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制1
-
甲基葡糖醇聚醚-20
保濕,表面活性劑1
-
煙酰胺
抗糖化,抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,去角質,保濕1
-
水
皮膚調理,溶劑1
-
水輝石
吸附劑,填充劑,增稠劑,黏度控制1-2
-
白雲石
填充劑,摩擦劑,不透明劑1
-
植物甾醇/辛基十二醇月桂酰谷氨酸酯
皮膚調理,柔潤劑1
-
聚丙烯酰胺
增稠劑,成膜劑,抗靜電,粘合劑2-4
-
1,2-己二醇
皮膚調理,保濕,溶劑1
-
方解石
皮膚調理,摩擦劑1
-
泛醇
指甲護理,皮膚防護,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,保濕,抗靜電,柔潤劑1
-
辛酰甘氨酸
皮膚調理,控油,頭髮調理,氣味抑製劑,清潔劑,表面活性劑1
-
對羥基苯乙酮
抗氧化1
-
精氨酸
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑1
-
C13-14 異鏈烷烴
皮膚調理,柔潤劑,溶劑1
-
丹參(SALVIA MILTIORRHIZA)根提取物
抗衰,皮膚調理,抗氧化,健美
-
1,3-丙二醇
保濕,增稠劑,溶劑,黏度控制2
-
霍霍巴(SIMMONDSIA CHINENSIS)籽油
皮膚調理,頭髮調理,保濕,柔潤劑1
-
CI 77288
著色劑色素
-
月桂醇聚醚-7
清潔劑,表面活性劑,乳化劑1-3
-
丁香(EUGENIA CARYOPHYLLUS)花蕾提取物
皮膚調理,抗氧化,抗衰
-
當歸(ANGELICA POLYMORPHA SINENSIS)根提取物
皮膚調理,抗氧化,抗衰
-
黃芩(SCUTELLARIA BAICALENSIS)根提取物
抗衰,舒敏,收斂,抗氧化,保濕1
-
辛酰羥肟酸
螯合劑1
-
積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕,清潔劑1
-
甘草(GLYCYRRHIZA URALENSIS)根提取物
舒敏,皮膚調理,抗氧化4
-
CI 77499
著色劑色素
-
水解透明質酸鈉
皮膚調理,頭髮調理,保濕1
-
乳酸鉀
皮膚調理,保濕,pH調節劑4
-
甘氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
-
苯氧乙醇
防腐劑一般防腐劑2-4
-
粉防己(STEPHANIA TETRANDRA)提取物
舒敏,收斂
-
絲氨酸
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電1
-
谷氨酸
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電1
-
甘草酸二鉀
祛痘,舒敏,皮膚調理,保濕1
-
生育酚(維生素E)
修護,抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕致痘風險等級（低）1
-
天冬氨酸
抗衰,皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電1
-
亮氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
-
丙氨酸
皮膚調理,抗氧化,頭髮調理,抗靜電1
-
賴氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
-
酪氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
-
苯丙氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
-
纈氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
-
蘇氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
-
脯氨酸
皮膚調理,頭髮調理1
-
異亮氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,柔潤劑1
-
組氨酸
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電1
-
黃原膠
皮膚調理,膠凝劑,增稠劑,清潔劑,粘合劑,表面活性劑,黏度控制,乳化劑,乳化穩定劑1
-
檸檬酸鈉
螯合劑,pH調節劑1
溫馨提示：
綠色表示安全。
橙色表示較安全。
紅色表示潛在風險成分。
灰色表示暫無數據。
安全風險從0-10,數字越高代表風險越大，主要針對長期使用之安全性進行評估。
致痘風險等級分為【低-中-高】，如沒有標記，則代表此成分無致痘風險。