PLANT PARK舒柔按摩卸妝霜
品牌:PLANT PARK
企業:蘇州工業園區安諾科斯化妝品研發有限公司
分類:卸妝膏/霜
企業:蘇州工業園區安諾科斯化妝品研發有限公司
分類:卸妝膏/霜
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水
溶劑1
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異壬酸異壬酯
皮膚調理,抗靜電,柔潤劑1
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辛基十二醇肉豆蔻酸酯
皮膚調理,柔潤劑1
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異硬脂醇異硬脂酸酯
皮膚調理,柔潤劑,粘合劑致痘風險等級(高)1
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丁二醇
保濕1
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棕櫚酸異丙酯
頭髮調理,抗靜電,柔潤劑致痘風險等級(中)1
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甘油
保濕1-2
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聚甘油-10
皮膚調理,保濕1
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植物甾醇澳洲堅果油酸酯
皮膚調理,頭髮調理,柔潤劑1
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鯨蠟硬脂醇
皮膚調理,乳化穩定劑1
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甘油硬脂酸酯
乳化劑致痘風險等級(低)
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PEG-100 硬脂酸酯
乳化劑、含PEG的成分1-3
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硬脂酸
清潔劑,表面活性劑,乳化穩定劑致痘風險等級(低)1
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蔗糖硬脂酸酯
皮膚調理,柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,乳化劑1
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聚甘油-2 三異硬脂酸酯
柔潤劑,乳化劑1
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1,2-己二醇
保濕1
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棕櫚酸
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑致痘風險等級(低)1
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卡波姆
增稠劑1
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對羥基苯乙酮
抗氧化1
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氨丁三醇
pH調節劑1-2
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山梨坦硬脂酸酯
乳化劑1
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聚二甲基硅氧烷
頭髮調理,柔潤劑硅油、2-4
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枯草菌脂肽鈉
抗衰,清潔劑,表面活性劑,乳化劑1
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薰衣草(LAVANDULA ANGUSTIFOLIA)油
皮膚調理2
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生育酚乙酸酯
抗氧化,保濕2-3
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氫化卵磷脂
抗衰,皮膚調理,抗氧化,保濕,乳化劑1-2
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辛酸/癸酸甘油三酯
柔潤劑1
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乙基己基甘油
皮膚調理,保濕2
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EDTA 二鈉
螯合劑1
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氫化聚異丁烯
皮膚調理,增稠劑,成膜劑,柔潤劑,黏度控制1
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透明質酸鈉
抗衰,保濕1
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紫芝(GANODERMA SINENSIS)提取物
皮膚調理
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人蔘(PANAX GINSENG)根提取物
抗氧化,柔潤劑1
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牡丹(PAEONIA SUFFRUTICOSA)提取物
皮膚調理,抗氧化
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黃檗(PHELLODENDRON AMURENSE)樹皮提取物
皮膚調理,抗氧化1
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雪蓮花(SAUSSUREA INVOLUCRATA)提取物
保濕1
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季戊四醇四(雙-叔丁基羥基氫化肉桂酸)酯
皮膚調理,抗氧化,抗結塊劑2
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積雪草(CENTELLA ASIATICA)提取物
修護,舒敏,皮膚調理,抗氧化,保濕1
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馬齒莧(PORTULACA OLERACEA)提取物
抗衰,舒敏,抗氧化,保濕1
溫馨提示:
綠色表示安全。
橙色表示較安全。
紅色表示潛在風險成分。
灰色表示暫無數據。
安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。