ATS Stylemuse Hard Holding Wax ATS Stylemuse Hard Holding Wax

• WATER@!@AQUA
  溶剂
  1
  
• MICROCRYSTALLINE WAX@!@CERA MICROCRISTALLINA
  填充剂,增稠剂,粘合剂,黏度控制,不透明剂,乳化稳定剂
  矿物油
  1
  
• CYCLOPENTASILOXANE
  头发调理,润肤剂
  硅油
  3
  
• PROPYLENE GLYCOL
  保湿
  3
  
• CANDELILLA CERA@!@EUPHORBIA CERIFERA (CANDELILLA) WAX
  润肤剂,乳化稳定剂
  1
  
• BEESWAX
  皮肤调理,增稠剂,润肤剂,粘合剂,黏度控制,乳化剂,乳化稳定剂
  1
  
• AMP-ACRYLATES COPOLYMER
  增塑剂,成膜剂
  1-4
  
• ALCOHOL
  溶剂
  酒精
  1
  
• CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE
  润肤剂
  1
  
• KAOLIN
  吸附剂,填充剂,抗结块剂,摩擦剂,不透明剂
  1
  
• CETYL ALCOHOL
  增稠剂,润肤剂
  1
  
• STEARYL ALCOHOL
  皮肤调理,增稠剂,润肤剂,清洁剂,表面活性剂,赋脂剂,黏度控制,不透明剂,乳化剂,乳化稳定剂
  1
  
• GLYCERYL STEARATE
  乳化剂
  致痘风险等级（低）
  
  
• HYDROGENATED POLYISOBUTENE
  皮肤调理,增稠剂,成膜剂,润肤剂,黏度控制
  1
  
• STEARIC ACID
  清洁剂,表面活性剂,乳化稳定剂
  致痘风险等级（低）
  1
  
• PEG-100 STEARATE
  乳化剂
  、含PEG的成分
  1-3
  
• POLYSORBATE 60
  乳化剂
  1-3
  
• MINERAL OIL
  皮肤调理,润肤剂,赋脂剂
  、矿物油
  1-3
  
• STEARYL STEARATE
  皮肤调理,增稠剂,润肤剂,黏度控制
  1
  
• HYDROGENATED CASTOR OIL
  皮肤调理,头发调理,增稠剂,润肤剂,清洁剂,表面活性剂,黏度控制,乳化剂
  1
  
• GALACTOMYCES FERMENT FILTRATE
  皮肤调理,抗氧化,保湿
  1
  
• METHYLPARABEN
  防腐剂
  、一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂
  3-4
  
• FRAGRANCE
  吸附剂,香精香料
  香精香料
  
  
• CARBOMER
  增稠剂
  1
  
• PROPYLPARABEN
  防腐剂
  、一般防腐剂、尼泊金酯类防腐剂
  9
  
• CETYL PALMITATE
  保湿,皮肤调理,润肤剂
  1
  
• GLYCERIN
  保湿
  1-2
  
• TRIETHANOLAMINE
  pH调节剂
  致痘风险等级（低）
  6
  
• CETETH-20
  清洁剂,表面活性剂,乳化剂
  1-3
  
• SODIUM HYALURONATE
  修护,舒缓,抗衰,保湿
  1
  
• HYDROLYZED HYALURONIC ACID
  保湿,润肤剂
  1
  
• HYALURONIC ACID
  抗衰,修护,保湿
  1
  
• SODIUM HYALURONATE CROSSPOLYMER
  保湿
  1
  
• HYDROLYZED GLYCOSAMINOGLYCANS
  皮肤调理,保湿,头发调理,成膜剂,润肤剂
  1
  

Warm Tips：
Green indicates safety
Orange indicates safety.
Red indicates potential risk components.
Gray indicates that there is currently no data available.
The security risk ranges from 0 to 10, and the higher the number, the greater the risk. It is mainly evaluated for the safety of long-term use.
The risk level of acne is divided into low medium high. If not marked, it means that this ingredient has no risk of acne.