HADA-LABO TAMAGOHADA MILD PEELING FACIAL CLEANSING FOAM DISCONTINUED
分類:其他卸妝
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水
溶劑1
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PCA 鈉
皮膚調理,控油,頭髮調理,保濕,抗靜電1
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水楊酸
去黑頭,祛痘,皮膚調理,控油,去屑,頭髮調理,去角質,保濕,防腐劑,不透明劑一般防腐劑、孕婦慎用成分1-3
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乙二醇二硬脂酸酯
皮膚調理,頭髮調理,增稠劑,柔潤劑,表面活性劑,黏度控制,不透明劑,乳化劑1
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絲氨酸
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電1
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肉豆蔻酰谷氨酸鉀
頭髮調理,清潔劑,表面活性劑
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甘氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
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丁二醇
皮膚調理,保濕,溶劑,黏度控制1
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月桂酸
清潔劑,表面活性劑,乳化劑致痘風險等級(高)1
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谷氨酸
皮膚調理,保濕,頭髮調理,抗靜電1
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蘇氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
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硬脂酸
柔潤劑,清潔劑,表面活性劑,賦脂劑,乳化劑,乳化穩定劑致痘風險等級(低)1
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脯氨酸
皮膚調理,頭髮調理1
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賴氨酸
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電1
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羥基乙酸
祛痘,皮膚調理,去角質,pH調節劑1-4
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椰油酰兩性基乙酸鈉
頭髮調理,增泡劑,清潔劑,表面活性劑1
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尿囊素
修護,舒敏,皮膚防護,皮膚調理,收斂,頭髮調理,保濕1
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山梨(糖)醇
皮膚調理,保濕1
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溫泉水
溶劑
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羥苯甲酯
防腐劑,不透明劑、一般防腐劑、尼泊金酯類防腐劑3-4
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月桂酰胺丙基甜菜鹼
皮膚調理,頭髮調理,抗靜電,清潔劑,表面活性劑,黏度控制1-3
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聚季銨鹽-39
成膜劑,抗靜電,柔潤劑1-2
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聚乙二醇-400
溶劑,粘合劑,乳化穩定劑含PEG的成分3
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甜菜鹼
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,表面活性劑,黏度控制1
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月桂酰胺 DEA
抗靜電,清潔劑,表面活性劑,黏度控制1-3
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氫氧化鉀
pH調節劑2-5
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精氨酸
皮膚調理,頭髮調理,保濕,抗靜電,pH調節劑1
溫馨提示:
綠色表示安全。
橙色表示較安全。
紅色表示潛在風險成分。
灰色表示暫無數據。
安全風險從0-10,數字越高代表風險越大,主要針對長期使用之安全性進行評估。
致痘風險等級分為【低-中-高】,如沒有標記,則代表此成分無致痘風險。